澳大利亞研制納米電子束曝光系統(tǒng)

據(jù)澳大利亞莫納什大學網(wǎng)站報道，澳大利亞研究人員正在研制世界最強大的納米設備之一——電子束曝光系統(tǒng)（EBL）。該系統(tǒng)可標記納米級的物體，還可在比人發(fā)直徑小1萬倍的粒子上進行書寫或者蝕刻。 　　電子束曝光技術(shù)可直接刻畫精細的圖案，是實驗室制作微小納米電子元件的最佳選擇。這款耗資數(shù)百萬美元的曝光系統(tǒng)將在澳大利亞亮相，并有能力以很高的速度和定位精度制出超高分辨率的納米圖形。該系統(tǒng)將被放置在即將完工的墨爾本納米制造中心（MCN）內(nèi)，并將于明年3月正式揭幕。
　　MCN的臨時負責人阿彼得·凱恩博士表示，該設備將幫助科學家和工程師發(fā)展下一代微技術(shù)，在面積小于10納米的物體表面上實現(xiàn)文字和符號的書寫和蝕刻。此外，這種強大的技術(shù)正越來越多地應用于鈔票詐騙防偽、微流體設備制造和X射線光學元件的研制中，還可以支持澳大利亞同步加速器的工作。
　　凱恩說：“這對澳大利亞科學家研制最新的納米儀器十分重要，其具有無限的潛力，目前已被用于油漆、汽車和門窗的凈化處理，甚至對泳衣也能進行改進。而MCN與澳大利亞同步加速器相鄰，也能吸引更多的國際研究團隊的目光。”
　　MCN的目標是成為澳大利亞開放的、多范圍的、多學科的微納米制造中心。該中心將支持環(huán)境傳感器、醫(yī)療診斷設備、微型納米制動器的研制，以及新型能源和生物等領(lǐng)域的研究和模型繪制。除電子束曝光系統(tǒng)外，MCN中還包含了高分辨率雙束型聚焦離子束顯微鏡、光學和納米壓印光刻儀、深反應離子蝕刻儀和共聚焦顯微鏡等眾多設備。
　　凱恩認為：能夠介入這種技術(shù)使我們的科學家十分興奮，它可以確保我們在未來十年內(nèi)在工程技術(shù)前沿領(lǐng)域的眾多方面保持領(lǐng)先地位，也將成為科學家在納米范圍內(nèi)取得更大成就的重要基點。