尼高力紅外光譜儀 360 FT-IR使用規(guī)程

尼高力紅外光譜儀 360 FT-IR使用規(guī)程
1．打上電源開關。
2 。打開尼高力紅外光譜儀 360 FT-IR電源開關
3． 計算機啟動
4．系統(tǒng)啟動
5． 用鼠標雙擊 OMNIC圖標,鍵入密碼,按“OK”,重復鍵入密碼, 按“OK”,進入紅外分析操作窗口
6． 點擊“ Edit ”出現(xiàn)下拉菜單，單擊“ Edit Toolbar ”，出現(xiàn)兩行快捷鍵圖標。

7．上行圖標是軟件所有的快捷鍵圖標，下行為當前應用的圖標。利用鼠標拖動下行的圖標至回收桶可刪除當前快捷鍵。利用鼠標拖動上行的圖標到 下行空圖標處可增加當前快捷鍵確定后單擊“ OK ”，單擊“ cancel ”可恢復原設置回到OMNIC工作桌面。  
8．紅外光譜儀的校正
紅外光譜儀需在每天使用前進行校正。單擊主菜單“Collect”條，出現(xiàn)下拉框，單擊“Experiment Setup...” 出現(xiàn)“Experiment Setup”窗，于“Collect”欄設定掃描次數(shù)，響應值及截止函數(shù)（通常選Transmittance）（當儀器正常使用時，方法已設定，不需重新設定）。在“Background Handing”中選擇“Collect background after every sample”則收集完樣品后再收集空白
9．樣品測定
10．對溴化鉀的質(zhì)量要求
用溴化鉀制成空白片，以空氣作參比，錄制光譜圖，基線應大于75%，透光率除在3440cm-1及1630cm-1附近因殘留或附著水而呈現(xiàn)一定的吸收峰外，其他區(qū)域不應出現(xiàn)大于基線3%透光率的吸收譜帶。
11． 每次做樣取 適 量的KBr于 稱 量瓶中, 在紅外燈下烘1小時或在恒溫105℃  下烘3小時,取出后置干燥器中待 用。
12． 溴化鉀壓片法：
取供試品約0.3mg (預先在紅外燈下烘1小時或在恒溫105℃下干燥3小時) ，置瑪瑙研缽中，加入干燥的溴化鉀約100mg，充分研磨混勻（向同一方向研磨），移置于壓模中，使分布均勻，把壓模水平放置于壓片機座上，加壓至10t/cm2，保持3分鐘，取出供試片，用目視檢查應均勻，表面平滑，透光好。     
13． 漿糊法：
取干燥本品約15mg，置瑪瑙研缽中，同一方向研磨。用滴管滴加相當量的石蠟油，混合研勻使成糊狀，用不銹鋼小鏟取出均勻地涂在溴化鉀窗片上，放上另一窗片壓緊。
14． 采集樣品前，單擊“ Collect ”菜單下的“ Experiment Setup ”，選擇“ Diagnostic ”觀察各項是否正常( 不正常圖標上會出現(xiàn)紅色“ / ” ) 各項正常后, 把制好的樣品壓片放入樣品室, 選擇“ Bench ”, 當Gain為1時最大值（Max）：不少于3如果過小可以調(diào)節(jié)增益, 再按“OK”。
15． 采集樣品：單擊主菜單“ Collect ”條下“ Collect Sample”條或窗口上“Col Smp”圖標，出現(xiàn)時間對話框，確定后單擊“OK”，再單擊“OK”。
4．7 采集背景：樣品采集完畢后,出現(xiàn)收集背景提示框, 把樣品從樣品室中取出, 將空白片插進去，單擊“OK”，開始采集背景。
16． 采集背景后，計算機會自動扣除背景，最后光譜窗上顯示樣品的紅外光譜圖。

17． 處理圖譜
18． 用鼠標單擊“ Displim ”圖標， 跳出對話框， 在X-Axis limits 的Start處輸入 4000, End處輸入400；在Y-Axis limits Start處輸入0，End處輸入100，單擊“ OK ”。若原來坐標不在以上設定范圍, 則會出現(xiàn)一個新圖譜, 用鼠標選中舊圖譜, 單擊窗口圖標“Clear”清除。
19．單擊“ Display  setup ”，出現(xiàn)對話框，選擇“ Sampling information ”，用鼠標點擊選擇全部樣品信息，并選擇注解（Annotation）、顯示X-軸、Y-軸。單擊OK。觀察所給圖譜是否滿意, 如滿意打印。
20． 運用找峰功能，單擊 “ Find peaks ”。用鼠標調(diào)節(jié)屏幕左邊的靈敏度, 光譜中，儀器的分辨率要求清晰地分辨出主要的峰，滿意后打印。
4．14單擊 “Analyze ”,選“l(fā)ibrary  setup ” 顯示吸收圖譜庫。在吸收圖譜庫的標準對照圖譜庫中選擇相應產(chǎn)品的相應標準對照圖譜，點擊“add”，在右框中選擇該圖譜，點擊“search”,儀器自動將樣品的圖譜與所選的對照標準圖譜對比,要求匹配率達到90%以上。


21． 最大吸收峰的吸收強度不少于20%透光率，基線透光率必須大于95%
22．標準對照圖譜的錄制：應由兩名檢驗員分別錄制標準品的圖譜，與上一批次的標準對照圖譜進行對照，匹配率不低于90%
23．標準對照圖譜的管理：標準圖譜應適時更新并保存于標準圖譜庫中，標準圖譜庫文件夾的名稱處標明更新年月
24．模具的清潔
壓模用完后,應先用軟紙輕擦掉殘留的固體,再用相溶的溶劑清洗,（如樣品易溶于水，則用水清洗.如樣品易溶于有機溶劑,則用乙醇或甲苯清洗），肉眼觀察已無固體殘留后用蒸餾水沖洗三次。清潔完的模具放于紅外燈下照射干燥1小時，干燥后放于干燥器內(nèi)保存。
25．紅外光譜儀清潔
進行樣品分析時應避免樣品粉塵污染儀器，樣品分析前應確保樣品室內(nèi)硅膠干燥, 無上批殘留的樣品粉末，樣品分析結束后，用軟紙清潔樣品室，確保無粉塵或液體污染，用軟布清潔儀器外表，確保無污漬或粉塵。
26．關機
27． 先退出OMNIC 窗口,單擊右上角“X”或主菜單“File”條下的“Exit”。
28． 單擊 Windows 工作平臺左下角“Start”,單擊“Shut Down”,關閉計算機主機。
29．  關閉FT-IR電源開關。
30．作好儀器使用記錄。
31．紅外光譜儀樣品室的硅膠必須每天更換上已烘好、干燥的硅膠。
32．放置紅外光譜儀的分析室必須配備抽濕裝置控制%RH＜65%, 溫度15–30℃。
注：最好不要關紅外的電源，長開都是可以的