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國(guó)家集成電路微納檢測(cè)設(shè)備產(chǎn)業(yè)計(jì)量測(cè)試中心(上海)為國(guó)家微納米位移定位雙溯源鏈路計(jì)量研究提供關(guān)鍵技術(shù)支撐
納米位移定位技術(shù)是現(xiàn)代精密工程的基礎(chǔ),以集成電路領(lǐng)域?yàn)槔?,針?duì)大行程晶圓臺(tái)的超精密定位技術(shù)是光刻機(jī)中的關(guān)鍵核心技術(shù)之一。在套刻誤差分配中,光刻機(jī)晶圓臺(tái)的納米定位誤差通常占總套刻十分之一,要求定位精度達(dá)到亞納米級(jí)別,這對(duì)納米位移定位校準(zhǔn)技術(shù)的準(zhǔn)確度和可靠性提出了嚴(yán)格要求。傳統(tǒng)校準(zhǔn)技術(shù)受限于單一溯源鏈路,難以兼顧高精度、大行程與高環(huán)境適應(yīng)性,限制了其在超精密定位領(lǐng)域的應(yīng)用。 針對(duì)這一難題,中國(guó)計(jì)量科學(xué)研究院施玉書(shū)研究員團(tuán)隊(duì),聯(lián)合國(guó)家集成電路微納檢測(cè)設(shè)備產(chǎn)業(yè)計(jì)量測(cè)試中心(上海)程鑫彬教授團(tuán)隊(duì),基于一維鉻納米光柵標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)研制了光柵衍射干涉法微納米位移定位校準(zhǔn)裝置,為我國(guó)微納米位移定位校準(zhǔn)溯源鏈路擴(kuò)充與能力提升提供了關(guān)鍵技術(shù)支撐。目前雙方聯(lián)合研究成果已發(fā)表于《計(jì)量科學(xué)與技術(shù)》。 ![]()
圖1、微納米位移定位校準(zhǔn)裝置雙溯源鏈路 該研究在原激光干涉法單溯源鏈路的基礎(chǔ)上,創(chuàng)新性地引入光柵衍射干涉法,構(gòu)建了雙溯源鏈路。在以激光溯源至波長(zhǎng)基準(zhǔn)的溯源鏈路中,采用六自由度激光干涉計(jì)量系統(tǒng)測(cè)量位移臺(tái)X、Y、Z軸的位移和轉(zhuǎn)角,以短鏈的方式極大減小了測(cè)量過(guò)程中的誤差累積,通過(guò)633 nm激光波長(zhǎng)實(shí)現(xiàn)測(cè)量結(jié)果向國(guó)際單位制(SI)“米”定義直接溯源。在以光柵柵距溯源至波長(zhǎng)基準(zhǔn)的溯源鏈路中,以同濟(jì)大學(xué)國(guó)家集成電路微納檢測(cè)設(shè)備產(chǎn)業(yè)計(jì)量測(cè)試中心程鑫彬教授團(tuán)隊(duì)研制的國(guó)家一級(jí)標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)(一維鉻納米光柵)為核心,基于利特羅結(jié)構(gòu)搭建了光柵干涉儀。該光柵以激光波長(zhǎng)作為物理學(xué)基準(zhǔn),利用原子光刻技術(shù)在納米光柵上制造出與半基準(zhǔn)波長(zhǎng)相對(duì)應(yīng)的柵距,從而實(shí)現(xiàn)柵距的精確定義和直接溯源。當(dāng)光柵在光柵矢量方向上的運(yùn)動(dòng)時(shí),衍射光由于多普勒效應(yīng)頻率發(fā)生變化。將±m(xù)級(jí)次衍射光合束后,基于差頻干涉原理,光柵每移動(dòng)1/2柵距的位移,信號(hào)相位變化2π,即柵距為光柵位移系統(tǒng)的測(cè)量基準(zhǔn),可直接溯源至“米”定義。 ![]()
圖2、(a)(b)六軸激光干涉儀實(shí)物圖與示意圖,(c)(d)光柵干涉儀實(shí)物圖和示意圖 該研究創(chuàng)新性地融合激光干涉法與光柵衍射干涉法兩大量值溯源體系,突破單一量值溯源鏈局限,其雙溯源鏈路均了對(duì)中間變量的依賴,實(shí)現(xiàn)了直接溯源,減少了誤差積累,降低了對(duì)設(shè)備和環(huán)境的要求。該研究為相關(guān)行業(yè)的精密測(cè)量提供了標(biāo)準(zhǔn)化、高準(zhǔn)確性的參考依據(jù),有助于完善我國(guó)在微納米定位平臺(tái)校準(zhǔn)相關(guān)的計(jì)量體系,為微納米定位技術(shù)的發(fā)展提供了重要的技術(shù)支撐。研究工作得到了國(guó)家重點(diǎn)研發(fā)計(jì)劃和中國(guó)計(jì)量科學(xué)研究院基本科研業(yè)務(wù)費(fèi)重點(diǎn)領(lǐng)域等基金項(xiàng)目資助。 https://news.tongji.edu.cn/info/1003/90709.htm
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